A demanda impulsionada pela IA pressiona simultaneamente diferentes gerações de chips, segundo a ASML. Diante desse movimento, a empresa planeja ampliar em cerca de 30% sua capacidade de produzir máquinas de litografia EUV, que usam luz ultravioleta extrema para imprimir circuitos em lâminas de silício, em 2027.

O plano foi compartilhado nesta quarta-feira (15), durante a apresentação dos resultados financeiros do segundo trimestre de 2026.

“Se olharmos para os nós avançados existentes (5 nm, 4 nm e 3 nm), vemos que nossos clientes estão tentando adicionar muita capacidade agora. Isso acontece porque há uma enorme demanda por essas tecnologias impulsionada pela IA”, disse o CEO Christophe Fouquet.

O movimento também alcança processos mais recentes, como os de 2 nm e 1,4 nm. Em geral, números menores indicam gerações mais avançadas do processo de fabricação, associadas a uma maior densidade de transistores.

Fouquet explica, ainda, que os clientes aceleram a expansão da capacidade de produção em 2 nm e já começam a estudar uma futura ampliação em 1,4 nm.

A pressão também se estende ao mercado de memórias. Os preços das memórias DDR (comuns em computadores e servidores) e HBM (usadas em aceleradores de IA) indicam, na avaliação do executivo, a necessidade de ampliar a oferta. Diante desse cenário, os clientes da ASML têm acelerado os planos para ampliar a produção.

Para 2026, a empresa projeta crescimento de 75% na receita do segmento de memória e de aproximadamente 25% na receita ligada à produção avançada de chips de lógica, como CPUs, GPUs e aceleradores de IA, responsáveis pelo processamento de dados.

Capacidade ampliada

A ASML planeja ampliar em cerca de 30% sua capacidade de produzir máquinas EUV em 2027, em relação ao ano anterior.

Esses equipamentos utilizam luz ultravioleta extrema para realizar a litografia, etapa em que os desenhos dos circuitos são projetados sobre lâminas de silíciopara formar as estruturas microscópicas dos chips.

Em 2026, a empresa espera entregar aproximadamente 65 máquinas Low-NA EUV. Mesmo com a expansão programada para o ano seguinte, a ASML afirma estar perto de receber pedidos suficientes para ocupar toda a sua capacidade de EUV de 2027.

A ASML prevê entregar 130 máquinas DUV de imersão, que usam luz ultravioleta profunda e uma camada de líquido para aumentar a precisão, em 2026. Para 2027, a empresa planeja ampliar em 30% a capacidade desses equipamentos e avalia outro aumento de 30% para 2028.

Em relação às máquinas EUV, a ASML já recebeu um volume elevado de pedidos para 2028 e estuda um novo aumento de 30%, além do previsto para 2027.

O detalhamento foi revelado após um trimestre de 9,3 bilhões de euros em receita líquida e 2,9 bilhões de euros em lucro líquido. A ASML prevê faturamento entre 43 bilhões e 45 bilhões de euros em 2026.